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CRF真空等离子设备提升半导体产品的封装可靠性如何？
随着技术的不断变化，半导体IC对工艺和包装的精度要求也有所提高。半导体芯片制造过程中残留的光刻胶会影响芯片生产过程中的相关工艺质量，从而减少芯片的可靠性和产品合格率。射频CRF真空等离子设备技术不能满足高精度脱胶的需要，容易造成芯片损坏。根据CRF真空等离子设备技术可以完全除去芯片表面的残留物，从而显著提高可制造性、可靠性和成品率。 半导体行业的清洗分为湿洗和干洗。湿洗是指超声波清洗，干洗是指等离子体清洗。电路板等离子体清洗后，对提高晶粒与焊盘导电胶的粘附性能、焊膏的渗透性、金属线键合强度、塑料密封和金属外壳涂层的可靠性有了显著提高。等离子体清洗在半导体器件、微机电系统、光电元件等包装领域具有广阔的市场前景。 半导体行业真空等离子设备的应用主要在以下四个方面： 1.真空等离子设备清洗铜支架<
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成都半导体超纯水设备的作业原理是什么？
现在的电去离子叫EDI，是一种将离子交换技术，离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。属高科技绿色环保技术。今天我们介绍的成都半导体超纯水设备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守等优点，已在制备纯水的系统中逐步代替混床作为精处理设备使用。 这种技术的环保特性好，操作使用简便，成都半导体超纯水设备受到大众的认可，是一种水处理设备。成都半导体超纯水设备广泛地在医药、电子、电力、化工等行业得到推广。那么，成都半导体超纯水设备的作业原理是什么？ 成都半导体超纯水设备的工作原理 电去离子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下，通过隔板的水中电介质离子发生定向移动，利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间，通常由阴膜，阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列，构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜，阴离子可透过阴膜)。 淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜，被浓室中的阴膜截留;水中阴离子向正极方向迁移阴膜，被浓室中的阳膜截留，这样通过淡室的水中离子数逐渐减少，成
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半导体超纯水设备的管道应该如何清洗呢
半导体超纯水设备管道如果长时间不清洗，会严重影响出水水质，那么半导体超纯水设备管道应该如何清洗呢?下面介绍一下： 首先我们需要注意的是清洗超纯水管道一定要采用超纯水，然后将储罐与水泵连接，再和需要清洗的管道进行连接，往储罐注入一定量的超纯水，用水泵进行循环，十五分钟之后拧开排水阀，一边排放一边循环，可以使用流量计测量。然后用稀释过的氢氧化钠溶剂继续循环冲洗，循环半个小时。 第一遍清洗前应在不锈钢滤筒里安装使用过的微孔滤棒专供清洗使用，清洗完成后更换全新微孔滤棒。半导体超纯水设备中的树脂罐严禁与清洗所用的双氧水溶液接触，清洗前树脂罐旁应安装管道旁通。 第二、三遍使用双氧水溶液清洗时，每次应使用双氧水溶液在管内循环半小时，然后停止循环关闭主阀门，让溶液在管道中浸泡1小时。 第四遍清洗时，应使用冲洗的方式，冲洗时间不少于8小时，边冲洗边循环，边在管道最末端放水。 以上为大家介绍的就是半导体超纯水设备管道的清洗方法，希望对大家有帮助。
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半导体超纯水设备的安全性能如何判断呢
半导体超纯水设备的制造需要遵循一定的安全准则，保证半导体超纯水设备的运行安全稳定，那么半导体超纯水设备的安全性能如何判断呢? 1、半导体超纯水设备的工艺和技术的安全性必须达到规定的标准。客户可以通过查看该厂商的产品是否有卫生部颁发的《涉水产品卫生许可批件》来验证。 2、半导体超纯水设备的组成部件要求安全，不能存在有害的溶出物质。卫生部在核查涉水产品卫生许可批件的时候，会有一个完善的程序，检测各零部件安全性以及整机功能的安全性。只要获得了相关批件基本可以确认是安全的。 3、要安装报警系统，以免出现故障，以致污水进入生产加工段。报警系统也很重要，自动报警及自适应处理系统，能很好地解决这个问题。 关于怎样判断半导体超纯水设备的安全性能就介绍到这里了，希望对大家有所帮助，半导体超纯水设备的制造要符合上述的性能标准，在使用时才会更加的放心。
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半导体行业用超纯水设备的系统优势有哪些
半导体行业用超纯水设备采用预处理、反渗透技术、超纯化处理等核心步骤，我们可根据客户需求，设计不同产水量、符合不同产水要求的超纯水设备。 半导体行业用超纯水设备系统优势 1、系统采用新水处理技术双级RO EDI 抛光混床模块化设计，严格按新技术的设计标准执行，确保水质稳定，长效运行。 2、通过专业技术设计，确保系统短时停机及长时间停机时水质保持稳定。 3、通过专业技术保证终端出水恒压、水质稳定。 4、通过完善的技术大限度的提高系统回收率，降低能耗和运行成本。 5、采用超低压膜，运行稳定，能耗低。 6、采用PH调节系统以确保原水PH值偏低时出水水质稳定。 8、EDI及后段出水采用超纯水专用管道，大限度的保证出水水质。 9、EDI水箱采用氮封装置，以确保终端水质稳定及延长混床寿命。 10、我们的设备可以采用PLC加触摸屏控制系统，操作方便，运行稳定。 11、半导体行
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半导体行业超纯水设备停机方式有哪些
半导体行业超纯水设备停机方式有两种，一种是手动停机，另一种是自动停机。下面为大家介绍一下手动停机和自动停机的操作及注意事项。 1、手动运行时停机 在电控箱将EDI膜块的选择开关切换至“停止”的位置，将增压泵的选择开关切换至“停止”的位置，关闭半导体行业超纯水设备进水阀门、产水阀门和浓水排放阀门。 2、自动运行时停机 半导体行业超纯水设备正常运行时在达到水箱设定液位值后会自动停止运行。为了保证半导体行业超纯水设备的安全运行，设备在控制方面进行以下几种自动连锁控制，当不满足以下条件时，设备也会自动停止运行。 (1)浓水进水流量、浓水排水流量低于各自的设定值时，限位开关会自动开启。 (2)增压泵过载。 (3)整流电源故障。 半导体行业超纯水设备停运时不要接通水源，否则设备在下次启运时需要较长的时间进行再生。 以上为大家介绍的就是半导体行业超纯水设备停机的两种方式，希望对大家有帮助。 <
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半导体行业超纯水设备电导率忽高忽低怎么办
一、一般情况下，水处理系统与初始状态一致，没有发生变化，电导率升高。这时候引起电导率高的原因是反渗透膜组件老化导致脱盐率下降，正确处理方法是更换反渗透主机的反渗透膜，通常更换频率(周期)是2-3年一次。 二、其他情况： 1、半导体行业超纯水设备正常运行电导率突然升高，排水量增大。这种情况是由于反渗透膜组件连接密封圈泄露造成的电导率急剧升高，建议更换密封圈。具体方法是检测每个膜组件的水质情况，找出泄露的部分更换。 2、半导体行业超纯水设备在开机的时候二级电导升高很难降下来或者是降的时间太长。这种情况一般在双级反渗透中常见，在一级和二级中间一般有加氢氧化钠来调节水中二氧化碳的脱除量的措施，氢氧化钠的添加量与电导率有关系，建议调整添加量。 3、半导体行业超纯水设备在运行一段时间后产水量没变化，电导率升高，排水量增大。说明膜被氧化性介质降解，电导率升高，需要更换膜组件。 4、半导体行业超纯水设备预处理的砂碳净化过滤效果减低或失效没有定期及时反冲洗(进水电导率会相对升高)。 <
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如何判断半导体生产用纯水设备是否需要检修呢
正确使用半导体生产用纯水设备能使设备使用的时间更长，其出水性能也会更有保证。但是若在使用过程中没有按操作说明去执行，不但影响设备的出水水质，还会增加设备维护工作的难度，那么怎样判断半导体生产用纯水设备是否需要检修呢?具体表现如下： 1、产水量下降 在正常压力下，若出现设备产水量下降，系统中的水不是在充满状态，此时需要通过不带压冲洗的方法排净空气，如果不排净空气，就容易产生“水锤”的现象而损坏系统元件。正常运行后观察设备的产水流量及工作压力、电导率等来判断是否污堵，根据产水流量及浓水流量来判断产水量是否能达到所设计的标准。 2、进水端与浓水段压差波动 如果设备的进水和浓水之间的压力有波动，诸如上升或下降现象，说明已经受到污染，需立马清洗。 3、出水水质 若出水水质变浑浊，很明显是设备中某些元件受损造成，应立刻排查。污堵后如若不及时用化学药剂清洗，会造成设备的污堵越来越严重。 半导体生产用纯水设备在日常工作过程中，要保障设备放置的地方通风干燥
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如何防止半导体行业超纯水设备滋生细菌呢
我们都知道，半导体行业超纯水设备经过长时间的使用后，不可避免的会发生细菌滋生的问题，细菌滋生不仅会影响设备的产水水质，还会对设备产生影响，那么，如何防止半导体行业超纯水设备滋生细菌呢? 1、次氯酸钠添加量应根据水源中细菌数进行相应调整，除了定期对细菌数进行检测外，还应对混合离子交换柱入口游离氯进行检测，以免游离氯超标，影响树脂的正常运行。 2、注意用水点旋塞的污染，使用频率较小的旋塞容易成为微生物污染的对象，一旦污染，若不长时间放水冲洗，无法恢复原状态。 3、市售次氯酸钠溶液容易氧化分解，若使用时间过长或系统逢节假日停运时间较长，除了从水箱放水让反渗透膜隔一段时间运行数小时、使系统保持活性外，也要对次氯酸钠溶液适时进行更换。 4、混合离子交换柱通常都采用一用一备的，细菌在静止超纯水设备中能够迅速繁殖，通常在备用混床投入运行前，对其进行再生，以保证杀菌效果。 半导体行业超纯水设备优良的性能和出水水质得到了广大用户的认可。以上就是为大家介绍的全部内容，希望对大家有帮助。
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半导体产业持续扩产连带无尘室设备市场增长
各无尘室设备厂商接单畅旺，在2011年后两季市场份额渐渐增长，2012年前两季接单也稳步增长，这让无尘室与其设备厂家乐观预期，2012年至2013年业绩有望维持成长力道。 自动化设备厂盟立受惠于面板设备增加以及IBM信息计算机出货旺，5月营收冲高到5.37亿元，合并营收6.03亿元，创下历史新高记录，累计前10月税前盈余5.4亿元，年成长73%，每股税前盈余为3.28元，每股税后盈余为2.86元。盟立在手订单约32亿元，订单能见度到2012年第2季底，以面板设备为主。 无尘室机电空调整合工程服务厂圣晖指出，目前在手的工程订单金额已逾新台币40亿元，而且已排到2012年上半。其中，无尘室工程比重约4成，化学物质供应工程近3成，生物科技、一般机电及其他工程各1成，将在未来6~8个月分批认列，可望带动2013年业绩再成长。半导体业者指出，景气在2012年第3季后将逐渐回温。同时，2013年将恢复平稳成长，对于半导体设备与无尘室业者来说，亦可持续成长力道。
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半导体工业用超纯水设备特点是什么
半导体产品清洗用超纯水设备关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。半导体超纯水设备我公司设计的超纯水设备采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的二级反渗透 EDI 精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质确保处理后出水电阻率达到18.2MΩ.cm。 为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等。系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
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半导体行业超纯水设备维护小技巧有哪些
半导体行业超纯水设备各部件的维护技巧有哪些?下面我们共同了解： 1、产水量是日常维护保养工作与正常生产需要持续关注的运行指标。 进水水温、操作压力等因素都会影响整个半导体超纯水设备的产水量，排放量的控制将直接影响设备的脱盐率，适时的对排放量进行合理的调整才能有效保证产水水质。 2、维持设备低压安全运行 半导体行业超纯水设备中反渗透膜是整个系统中原水纯化过程的核心部件，反渗透膜的使用寿命与运行环境将极大的影响设备的正常运行。在产水量与水质都达到生产标准的情况下，保持系统在适当的低压运行状态有利于降低反渗透膜水通量的衰减，极大的减少设备膜的更换率，延长使用寿命。 3、严控设备阀门调节与使用 任一
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半导体行业超纯水设备常用的仪表有哪些
半导体行业超纯水设备在运行中，为了使设备能够安全稳定的运行，对设备起到监控的作用，需要安装一些仪器。下面小编来介绍一下半导体行业超纯水设备常用的仪表有哪些。 1、温度表 产水量与温度有关，为了求出“标准化”后的产水量，需对温度进行监测，半导体行业超纯水设备应进行记录。 在此需要注意的是，当温度超过45℃时，膜元件会受损，所以原水加热系统还应设有超限报警、超温水自动排放和停运RO的保护。 2、电导率表 给水电导率表可设置报警，从给水电导率和产品水电导率可估计出RO的脱盐率。 3、压力表 出水压力表、给水压力表、排水压力表用于计算半导体行业超纯水设备的每一段压降，对产水量和盐透率维持稳定起到重要作用。 4、pH表 给水防止生成CaCO3垢，需加酸时，加酸后需装pH表。 当使用醋酸纤维素膜时，除了防止CaCO3垢生成，更重要的是维持pH值为5.7。除指示、记录、设超限报警外，还可以自动
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半导体生产用超纯水设备清洗步骤是什么
半导体生产用超纯水设备在使用一段时间后需要对其进行清洗维护，以确保设备长期稳定运行，下面我们一起了解半导体行业用超纯水设备清洗步骤是什么? 1、用半导体生产用超纯水设备清洗液，检查溶液的pH值，在清洗之前，要确定所有的药剂都溶解并搅拌均匀。 2、溶液混合完毕后，以合适的流量和压力开始清洗，清洗液在最初的几分钟排入地沟，然后再循环。 3、清洗过程中要注意清洗液的升温情况，观察清洗液颜色的变化，如清洗液变色或变得较浑浊，则需重新配置清洗液。在酸清洗时要注意pH值，如pH值升高0.5个单位，则必须再加酸。 4、停泵，使元件浸泡在溶液中1h左右。 5、再循环，时间为30～40min。 6、清洗完毕后，以反渗透产水或预处理出水冲洗出残余的清洗液。 7、半导体生产用超纯水设备冲洗结束，按规定的运行方式运行，最初产水排放至少10min。
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半导体生产用纯水设备需要定期清洗的部件有哪些
半导体生产用纯水设备需要定期清洗和维护，否则会影响设备的正常使用，下面为您详细讲解半导体生产用纯水设备都需要定期清洗哪些部件? 1、在夜间停机时，可利用作为原水的自来水对石英砂过滤器及活性碳过滤器进行反洗。因为具有一定的压力自来水，仍可通过加压水泵泵体及回流阀进入砂滤器及活性碳过滤器。 2、根据原水水质及设备运行情况，可按照用户的需要，设定全自动软水器的运行周期和时间。 3、石英砂过滤器或活性碳过滤器内的石英砂或活性碳，建议一年左右或半年左右彻底清洗更换一次。 4、精滤器，每周排水一次，精滤器内的PP滤芯，每1至3个月清洗一次，可拆卸拧下外壳，取出滤芯，用水冲洗干净后重新装入即可。 5、若不是因温度和压力的因素而引起的产水量逐渐减少15%时，或水质逐渐下降超标时，则说明半导体生产用纯水设备中的反渗透膜需要进行化学清洗。 以上为您介绍的就是半导体生产用纯水设备需要定期清洗的部件，希望对大家有帮助。
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半导体超纯水设备反渗透膜元件怎么保存呢
半导体超纯水设备如果暂时停机或者长期停机时，设备中的核心部件应该如何保存才能不失效呢?下面为大家介绍一下半导体超纯水设备反渗透膜元件的保存： 1、短期保存：反渗透膜如果暂停使用时，应对反渗透膜杀菌反冲洗一次，在反冲洗水中加入15ppm(ml/L)的杀菌剂后再将半导体超纯水设备中反渗透膜的进水阀、排放阀和调节阀关闭，保持反渗透膜的密封和灭菌作用。 2、长期保存：反渗透膜如果长期停止使用时，先对反渗透膜进行杀菌反冲洗一次，然后在反渗透膜内注入保护液后密封保存。 3、半导体超纯水设备中的反渗透膜元件需要一直保持在阴暗的场所，保存温度勿超过35℃，并要避免阳光照射。 以上就是为大家讲解的半导体超纯水设备停用时膜元件的保存方法，希望对大家有所帮助。膜元件是半导体超纯水设备中的核心部件，设备停用时将其密封保存好，再次开机时才能确保设备性能不受影响。
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电子与半导体废水回用技术
水处理技术:总述 面对巨大的应用机遇，半导体制造商在日常经营中，非常依赖于超纯水连续流。由于全球水资源的日益缺乏，因此超纯水的生产成本在不断地上升。 溶解固体和悬浮固体在含量、酸碱度和金属杂质方面的差异，使半导体对常规技术处理造成了挑战。经过膜生物反应器和三级处理系统，就可以对半导体进行处理，使之达到新的严格的环境规定或者在工厂内获得再次利用的机会，这样就造就了一个零的工厂。 膜系统是一种模块化系统；处理能力可以快速调节，与产量增长保持一致。这样，就可确保资本成本随时处于低水平。系统特点 ※化学品需要量最小或为零； ※淤泥产出量低； ※臭气产出量低； ※能量需求量低； ※占地紧凑； ※现有基础设施改造的理想选择； ※抗冲击负荷； ※满足严格的废水品质要求； ※自动化操作。
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半导体景观装饰照明的优势
景观装饰照明对光源光通量要求不是很高，但对色彩及其变化却比较苛求，目前LED己经能够满足景观装饰照明的需要。与其他电光源比较，LED因其光色特性及其体积小、隐蔽性好、组合变化多、安全、环保、寿命长、易维护、设计灵活性强等特点，在景观照明应用中最有很多优势。从都市的现代化建筑，到自然景观及夜景亮化工程，人们已把注意力聚焦在LED光源上。 节能环保、长寿命、固态化的LED,其纯正鲜艳的七彩色姹紫嫣红，勾勒出的高楼大厦的轮廓令人惊叹不己，把公园景观、音乐喷泉和圣诞树等点缀得五彩缤纷。在古建筑、古文物等入文景观及博物馆内珍稀字画的照明中，LED 更是诸多光源中的佼佼者。 LED的工作电压低，功耗小，可用直流或脉冲电流驱动，易与控制IC和光纤导光相匹配，尤其适合太阳能供电。七彩LED无论是不同波长的单个LED组合还是RGB三基色芯片的集成设计，通过专用集成电路（ASIC）控制，辅以艺术灯具后可发出1 670 多种色光。以太阳能供电的外观迥异、光线柔合、色彩艳丽的 LED草坪灯、庭园灯、壁灯等灯具，可以有效地减少强光源的色彩污染，将其安装在展览中心、博物馆、
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?半导体激光打标机水箱怎么安装？
半导体激光打标机水箱安装使用非常简易，新机首次使用可以按下面步骤进行： 1、打开包装，检查机器是否完好，附件是否齐备； 2、拧开机器注水口加入冷却水，注意不要让水溢出。加水时应同时观察水位计的水位慢慢加水，用于碳钢材质设备的冷却时应该添加适量的冷却水添加剂。 3、根据设备的情况接好出水管、入水管。 4、插上电源线，打开冷水机电源开关。 a、打开电源开关后，冷水机循环泵就开始运行，新机第一次开机时管路中会有较多的气泡导致机器偶尔流量报警，运行数分钟就会恢复正常。 b、第一次开机后，必须马上检查水管管路有无漏水情况。 c、打开电源后，如果水温低于设定温度，机器的风扇等器件不工作是正常现象。温控器会根据设定的控制参数自动控制压缩机、电磁阀、风扇灯器件的工作状态。 d、由于压缩机等器件有一个较长的启动过程，根据不同的工况从几十秒到数分钟
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半导体废水站的施工流程
废水站在公司的动力厂房内，主体土建已经结束，现欲对废水区域进行施工，系统安装，想知道具体的流程如何？请前辈们指教。谢谢！
